壓縮空氣將流延薄膜吹向冷卻流延輥表面并貼緊冷卻輥，可增加冷卻成效。再通過重慶電極架廠家兩個(gè)冷輥將薄膜兩面進(jìn)一步冷卻。流延薄膜的冷卻較多，所以重慶電極架廠家生產(chǎn)速度比吹塑法比較的高，可達(dá)60～100m/min以上，為吹塑薄膜生產(chǎn)速度的3~4倍。流延薄膜一般選用單螺桿擠出機(jī)。聚丙烯用螺桿，直徑90～200ｍｍ，L/D=25～33，ε=3.5~4，結(jié)構(gòu)為突變型，可帶混煉頭；聚乙烯用螺桿，直徑90~150mm，L/D=25~28，ε=3.0，結(jié)構(gòu)為計(jì)量型。機(jī)頭寬度有1.3m、2.4m、3.3m、4.2m幾種規(guī)格?？谀Ｆ街辈糠珠L(zhǎng)度L=(50~80)t(t為薄膜厚度)，薄膜厚度小時(shí)取大值；模唇開度0.3~0.5mm，厚度大時(shí)，取小值。聚酰胺流延薄膜多采用支管式機(jī)頭，模唇定型段長(zhǎng)度比CPP應(yīng)適當(dāng)長(zhǎng)一些。聚乙烯流延薄膜多采用支管式結(jié)構(gòu)，支管直徑30~50mm,模唇間隙0.3~1.0mm。

溫度升高，薄膜的挺度增加，下機(jī)專注電極架廠家摩擦系數(shù)變小，但透明度減少，橫向延伸率降減少。溫度過低易導(dǎo)致摩擦系數(shù)增加，薄膜發(fā)澀，影響收卷質(zhì)量，溫度過高易引起薄膜橫向延伸率減少，使產(chǎn)品在專注電極架廠家冬季時(shí)發(fā)脆，在鍍鋁、復(fù)合過程中容易斷膜。因此，應(yīng)根據(jù)不同類型的產(chǎn)品、厚度、生產(chǎn)速度來設(shè)定該溫度。流延輥及其他冷卻輥表面容易積聚原料里面小分子析出物，污染冷輥表面，影響薄膜外觀質(zhì)量。對(duì)于這一問題，需要停機(jī)清理，開機(jī)前檢查確認(rèn)輥表面的清潔程度．以拖長(zhǎng)持續(xù)生產(chǎn)時(shí)間，減少開停機(jī)增多帶來的損耗。

若薄膜生產(chǎn)后存放時(shí)間長(zhǎng)，析出的添加劑大量附在薄膜表面，增加薄膜電暈處理后的質(zhì)量。而且還要注意電暈產(chǎn)生的電火花是重慶電極架廠家否會(huì)對(duì)所使用的溶劑產(chǎn)生著火的可能。一般電暈處理裝置設(shè)置在印刷（或涂布、復(fù)合）裝置之前。其次就是兩種形式的重慶電極架廠家組合，既先在薄膜的生產(chǎn)線上進(jìn)行處理，然后在薄膜的后加工線上進(jìn)行處理。它適用于次處理質(zhì)量差，或次處理后存放時(shí)間已長(zhǎng)，處理成效已消退許多的薄膜。?據(jù)薄膜使用的不同要求，電暈處理又可分為薄膜單面或雙面電暈處理。對(duì)于高速的流延生產(chǎn)線，有的還采用多組電極，以使得塑料薄膜后期工藝對(duì)表面張力的要求。

風(fēng)量過小,壓力不足,貼輥成效變差, 薄膜就會(huì)產(chǎn)生橫向波動(dòng),薄膜厚度偏差很大, 膜面變形不平整無法生產(chǎn)(在開車生產(chǎn)時(shí)移動(dòng)風(fēng)刀重慶電極架廠家靠近流延輥過程中表現(xiàn)顯眼)。風(fēng)刀對(duì)流延輥的角度及風(fēng)刀位置也比較重要。角度不當(dāng), 也會(huì)使薄膜表面產(chǎn)生氣泡, 貼輥成效變差, 此角度重慶電極架廠家調(diào)整為使風(fēng)刀氣流方向垂直于過熔膜與流延輥始接觸點(diǎn)流延輥截面圓的切線。風(fēng)刀位置是指風(fēng)刀出風(fēng)口(稱風(fēng)刀口) 的?？奎c(diǎn)。不同的風(fēng)刀位置會(huì)使薄膜與流延輥的接觸線不同。風(fēng)刀位置越接近模唇, 接觸線也就越接近模唇, 氣息就越小,熔膜急冷成效好, 熔膜抖動(dòng)的幅度就小, 成膜后薄膜的厚薄度均勻性就越好。

目前常用的電暈處理機(jī)的輸出功率范圍2-70kW，如果處理速度增加1倍，處理功率也應(yīng)增加1倍；同理，如果薄膜寬度增加1倍，處理功率也應(yīng)增加1倍；冷膜處理的功率重慶電極架廠家至少比熱膜大1倍。以上也可作為選購(gòu)電暈處理機(jī)大小的依據(jù)。處理裝置重慶電極架廠家可以看作為一個(gè)帶損耗介質(zhì)的電容器，當(dāng)輸入電源的頻率升高時(shí)，電流就增加，功率也增加，反之則減少。電暈處理機(jī)一般是通過調(diào)節(jié)電源頻率來改變功率的大小。電暈處理機(jī)的頻率調(diào)節(jié)范圍：10-25kHz。? 電極間隙：電極間隙是指兩電極間的空間距離，即放電頭到地電極邊緣的空間距離。它對(duì)處理程度有兩方面的影響，一方面間隙增加，電暈處理范圍變寬，薄膜在電暈處理相對(duì)停留時(shí)間增加，可以改良處理成效。

環(huán)節(jié)溫度：存放環(huán)境溫度越高，消退速度越快，并且越。樹脂物性：含有添加劑的原料制成的薄膜的消退速度比無添加劑的要快，這是由于這些低分子量物質(zhì)極容易析出，覆蓋在薄膜的表面，使黏附性變差。薄膜厚度：厚的薄膜消退速度比專注電極架廠家薄的薄膜比較快。因此，薄膜處理后，當(dāng)即印刷、涂布或復(fù)合,以得到不錯(cuò)的潤(rùn)濕性和附著力。對(duì)不能進(jìn)行后加工的薄膜，應(yīng)注意以下3點(diǎn)：選用消退速度慢的牌號(hào)作為專注電極架廠家薄膜的原料，這點(diǎn)需要依靠平時(shí)經(jīng)驗(yàn)的積累；適當(dāng)增加處理功率，加深處理程度；盡可能在低溫環(huán)境中存放，以減慢消退速度。