需要考慮原材料及配方、混合混煉工藝、分散成效和受熱歷程等因素。應(yīng)著專注電極架廠家重考慮干燥、配比、混合加料裝置的合理性、精度，螺桿結(jié)構(gòu)與擠出原料塑化專注電極架廠家關(guān)系、加熱與冷卻控制成效，換網(wǎng)器、計量泵、模頭的結(jié)構(gòu)和工藝特性、流延冷卻輥的幾何參數(shù)、輥面溫度，牽引速度、薄膜厚度、張力控制等。很多的擠出工藝方案都離不開“熱”、“冷”、 “壓力”和“時間”。在生產(chǎn)操作時，應(yīng)嚴(yán)格檢查溫度、速度、壓力等技能條件以及冷卻介質(zhì)、用電功率變化情況。應(yīng)以擠出理論為基礎(chǔ)，制定既經(jīng)濟(jì)又切實可行的加熱溫度、擠出壓力、物料在機筒內(nèi)停留時間、冷卻定型工藝技能參數(shù)等。

而薄膜厚薄均勻度控制在設(shè)備成因則包含如下幾個環(huán)節(jié)：擠出系統(tǒng)：不正確的螺桿與模頭設(shè)計，或使用已磨損的擠出機料筒和螺桿，或料筒和螺桿的驅(qū)動設(shè)備出現(xiàn)故障，會造成薄膜均勻度變化。?？陂g隙：模頭?？陂g隙是影響薄膜厚度均勻的主要因素。?？陂g隙的調(diào)整是控制薄膜橫向厚度均勻的有成效的操作, 也是常用比較多的操作?，F(xiàn)代的流延設(shè)備裝置中, 為了能及時地通過調(diào)整模口間隙來控制薄膜的橫向厚度均勻, 都裝配有熱膨脹螺栓自動調(diào)節(jié)裝置。該裝置基本工作原理是通過對控制?？陂g隙的螺栓進(jìn)行加熱和冷卻, 運用熱脹冷縮物理性質(zhì)調(diào)整模口間隙。

對控制薄膜厚度均勻性通過風(fēng)刀的空氣流應(yīng)均勻地吹到熔膜上, 若風(fēng)刀口薪附有異物影響氣流的均勻, 那么薄膜的橫向厚度就會不均勻, 勃有異物處對應(yīng)的薄膜在熱效應(yīng)作用下就會專注電極架廠家偏薄, 且因急冷程度差異導(dǎo)致該處膜面霧度較高, 在膜面形成縱向透明度低的連續(xù)條紋。所以風(fēng)刀要無影響氣流的勃附物。真空箱專注電極架廠家的操作主要是注意調(diào)整抽氣風(fēng)速要與實際生產(chǎn)清況相匹配, 抽氣風(fēng)速過大, 會使熔膜易產(chǎn)生破洞;抽氣風(fēng)速過小, 就起不到抽去薄膜與流延輥之間空氣的成效。在生產(chǎn)同樣厚度產(chǎn)品時, 生產(chǎn)速度快較生產(chǎn)速度慢的真空箱風(fēng)速大; 在同樣的生產(chǎn)速度時, 產(chǎn)品厚度厚較產(chǎn)品厚度薄的真空箱風(fēng)速大。

若薄膜生產(chǎn)后存放時間長，析出的添加劑大量附在薄膜表面，增加薄膜電暈處理后的質(zhì)量。而且還要注意電暈產(chǎn)生的電火花是西藏電極架廠家否會對所使用的溶劑產(chǎn)生著火的可能。一般電暈處理裝置設(shè)置在印刷（或涂布、復(fù)合）裝置之前。其次就是兩種形式的西藏電極架廠家組合，既先在薄膜的生產(chǎn)線上進(jìn)行處理，然后在薄膜的后加工線上進(jìn)行處理。它適用于次處理質(zhì)量差，或次處理后存放時間已長，處理成效已消退許多的薄膜。?據(jù)薄膜使用的不同要求，電暈處理又可分為薄膜單面或雙面電暈處理。對于高速的流延生產(chǎn)線，有的還采用多組電極，以使得塑料薄膜后期工藝對表面張力的要求。